經(jīng)過雙級反滲透與電去離子處理后，產(chǎn)水電阻率已達到較高水平，但水中仍殘留微量弱電解質(zhì)、膠體顆粒與溶解氣體，距離電子級超純水的嚴格標準尚有差距。

　　拋光混床的工作原理是利用陽樹脂與陰樹脂的混合填充，對水中殘余的陽離子與陰離子進行交換去除。與普通工業(yè)混床不同，拋光混床采用核子級樹脂，樹脂轉(zhuǎn)型為氫型與氫氧根型，出廠后可直接裝填使用，無需現(xiàn)場再生。樹脂的交換容量與動力學性能經(jīng)過優(yōu)化，能夠在低含鹽量條件下保持較高的離子交換速率，對硼、硅等弱電解質(zhì)離子也有較好的去除效果。

　　萊特萊德在終端精制環(huán)節(jié)應用Huncotte®多頻改性吸附混床技術(shù)，通過對樹脂表面進行改性處理，增強樹脂對特定離子與有機物的吸附選擇性，提升終端出水的純度與穩(wěn)定性。混床樹脂的使用壽命取決于進水水質(zhì)與運行周期，在EDI產(chǎn)水水質(zhì)穩(wěn)定的前提下，拋光樹脂通常可運行較長時間后更換。樹脂失效后電阻率會逐步下降，系統(tǒng)通過在線電阻率儀表實時監(jiān)測，當指標低于設(shè)定閾值時提示更換。

　　除硼處理是半導體與光伏行業(yè)超純水制備中的特殊需求。硼離子在水中以硼酸形式存在，常規(guī)反滲透與EDI對硼的去除效率有限，而硼離子會對硅晶圓的電學性能產(chǎn)生影響。萊特萊德采用靶向除硼樹脂，樹脂官能團可與硼離子形成穩(wěn)定絡(luò)合物，對硼的選擇性強，不受水中其他離子干擾，可將硼含量控制在很低水平。

　　TOC控制是終端精制的另一項關(guān)鍵任務。水中殘留的有機物即使含量很低，也可能在芯片清洗與制藥配液過程中造成污染。萊特萊德配置185納米紫外TOC降解設(shè)備，利用高能紫外光子激發(fā)水分子產(chǎn)生羥基自由基，將大分子有機物氧化分解為二氧化碳與水，同時配合254納米紫外殺菌設(shè)備控制微生物指標。